氣相沉積爐是我公司生產的一種高溫燒結設備，今天咸陽陶瓷研究設計院就和大家一起探討一下氣相沉積爐的技術難點

氣相沉積爐是利用中頻感應加熱的高溫燒結設備，氣相沉積爐CVD是Chemical Vapor Deposition的簡稱，是指高溫下的氣相反應，例如，金屬鹵化物、有機金屬、碳氫化合物等的熱分解，氫還原或使它的混合氣體在高溫下發(fā)生化學反應以析出金屬、氧化物、碳化物等無機材料的方法。這種技術較初是作為涂層的手段而開發(fā)的，但目前，不只應用于耐熱物質的涂層，而且應用于高純度金屬的精制、粉末合成、半導體薄膜等，是一個頗具特征的技術領域。

氣相沉積爐技術特征在于：(1)高熔點物質能夠在低溫下合成;(2)析出物質的形態(tài)在單晶、多晶、晶須、粉末、薄膜等多種;(3)不僅可以在基片上進行涂層，而且可以在粉體表面涂層，等。特別是在低溫下可以合成高熔點物質，在節(jié)能方面做出了貢獻，作為一種新技術是大有前途的。